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钨酸锌, 99.9% (metals basis)  
钨酸锌, 99.9% (metals basis)

CAS：13597-56-3
Zinc tungsten oxide

  • ￥769
2-乙基己酸十乙醇铌(V)铅(II), 99% (metals basis), 10% w/v in ethanol  
2-乙基己酸十乙醇铌(V)铅(II), 99% (metals basis), 10% w/v in ethanol

CAS：MFCD00171335
Lead(II) niobium(V) 2-ethylhexanoate decaethoxide

  • ￥1184
二水甲酸锰(II), 98%  
二水甲酸锰(II), 98%

CAS：3251-96-5
Manganese(II) formate dihydrate

  • ￥576
5-(2-甲氧基苯基)-1H-四唑, 98%  
5-(2-甲氧基苯基)-1H-四唑, 98%

CAS：51449-81-1
5-(2-Methoxyphenyl)-1H-tetrazole

  • ￥608
氧化钽(V)溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.9% (metals basis)  
氧化钽(V)溅射靶, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.9% (metals basis)

CAS：215-238-2
Tantalum(V) oxide sputtering target

  • ￥22394
2,4,6-三异丙基苯甲酸, 97%  
2,4,6-三异丙基苯甲酸, 97%

CAS：49623-71-4
2

  • ￥790
1,4,7-三(乙氧羟基甲基)-1,4,7,10-四阿扎环十四烷  
1,4,7-三(乙氧羟基甲基)-1,4,7,10-四阿扎环十四烷

CAS：114873-52-8
1

  • ￥4922
(R)-Xyl-P-Phos RutheniumCl2 (R,R)-DPEN  
(R)-Xyl-P-Phos RutheniumCl2 (R,R)-DPEN

CAS：MFCD08064216
(R)-Xyl-P-Phos RutheniumCl2 (R

  • ￥5426
硝酸镱(III)水合物, 99.9% (REO)  
硝酸镱(III)水合物, 99.9% (REO)

CAS：237-384-6
Ytterbium(III) nitrate hydrate

  • ￥430
十水合草酸�(III), REacton®, 99.99% (REO)  
十水合草酸�(III), REacton®, 99.99% (REO)

CAS：51373-68-3
Ytterbium(III) oxalate decahydrate

  • ￥928
氯化锌水合物, 99.99% (metals basis)  
氯化锌水合物, 99.99% (metals basis)

CAS：231-592-0
Zinc chloride hydrate

  • ￥455
草酸镧(III) 水合物  
草酸镧(III) 水合物

CAS：79079-18-8
Lanthanum(III) oxalate hydrate

  • ￥295
2-甲氧基乙氧基镧(III), 5% w/v in 2-methoxyethanol, 99.9% (REO)  
2-甲氧基乙氧基镧(III), 5% w/v in 2-methoxyethanol, 99.9% (REO)

CAS：115685-56-8
Lanthanum(III) 2-methoxyethoxide

  • ￥1183
六氟硅酸铅(II)二水合物  
六氟硅酸铅(II)二水合物

CAS：1310-03-8
Lead(II) hexafluorosilicate dihydrate

  • ￥402
电镀铅液, metal content ^=82.2g/l  
电镀铅液, metal content ^=82.2g/l

CAS：MFCD00011151
Lead plating solution

  • ￥287
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 ... 84 85

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